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海关编码(HSCODE)
[8486202100]申报要素及申报实例等详细信息
归属分类:第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件(84~85章)
章节归属:第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
商品名称
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
申报要素
0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS;
最惠国(%)
0%
进口普通(%)
30%
出口从价关税率
0%
增值税率
13%
退税率(%)
13%
消费税率
-
商品描述
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD)
英文名称
Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
海关监管条件(无)HS法定检验检疫(无)
申报实例汇总
HS编码 |
商品名称 |
商品规格 |
84862021.00 |
有机金属化学气相沉积炉 |
用于生产LED高亮度蓝绿光外延片|用于生产LED高亮度 |
84862021.00 |
金属有机物化学气相沉淀炉 |
(ICCCS19X2/生产半导体晶片用) |
84862021.00 |
化学气相沉积设备 |
(旧)(制作半导体专用) |
84862021.00 |
化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 |
(D15498A) |
84862021.00 |
金属有机物化学气相沉积设备 |
D-180 |
84862021.00 |
金属有机源气相沉积设备 |
D300 |
84862021.00 |
镀膜机 |
COATING MACHINE |
84862021.00 |
化学气相沉积设备/WJ牌 |
WJ999 |
84862021.00 |
射频等离子增强化学气相沉积系统 |
P600 |
84862021.00 |
金属有机物化学气相沉积系统 |
CCS 19X2 Flip Top |
84862021.00 |
金属有机物化学气相沉积台 |
E450LDM |
84862021.00 |
气体混合柜成套散件/RESI |
化学气相沉积设备,将沉积薄膜的气体按照要求混合 |
84862021.00 |
化学气相沉积设备 |
CONCEPT ONE |
84862021.00 |
C-1淀积炉 |
型号C1 |
84862021.00 |
IC淀积炉 |
型号7000VTR,旧设备 |
84862021.00 |
钨膜化学气相沉积设备 |
C3 Altus NOVELLUS牌 |
84862021.00 |
太阳能减反射膜制造设备 |
Centrotherm牌,E2000 HT 410-4(4) |
84862021.00 |
(旧)常压化学气相沉积设备 |
在硅片表面上沉积一层二氧化硅薄膜;;Watkins-Johnson |
84862021.00 |
外延炉 |
用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S |
84862021.00 |
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 |
镀非晶和微晶膜,品牌:OERLIKON,型号:KAI MT |