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海关编码(HSCODE)
[3707909090]申报要素及申报实例等详细信息
归属分类:第六类 化学工业及其相关工业的产品 (28~38章)
章节归属:第三十七章:照相及电影用品
37079090.90
(已作废)
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申报要素
1.品名;2.用途;3.包装;4.成分;
5.品牌;6.型号;
最惠国(%)
8
进口普通(%)
35.00
出口从价关税率
增值税率
17.00
退税率(%)
13.0
消费税率
海关监管条件(无)HS法定检验检疫(无)
申报实例汇总
HS编码 |
商品名称 |
商品规格 |
37079090.90 |
照排片显影液,用于激光照排片,包装:塑料桶,成份:水 |
(碳酸钾,对苯二酚,参照归类问答书2004-564号,G101C1X1) |
37079090.90 |
PS版冲版液,用于PS版,包装:塑料桶,成份:水 |
(磷酸二氢钠,参照归类问答书2004-564号型号:ENERGYEL) |
37079090.90 |
硅片生产用显影液 |
(MF320200L/Drum) |
37079090.90 |
照排片定影液,用于激光照排片,包装:塑料桶,水 |
(乙酸,硫代硫酸氨,参照归类问答书2004-564号,PFIX) |
37079090.90 |
富士PS版保护胶GU-7 |
(1LX15) |
37079090.90 |
印刷保护胶 |
(PLATEGUM) |
37079090.90 |
显影液(200升)OPD-10C |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液(5升)HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPE |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液(1000升)HPRD-429 POSITIVERESIST DEVEL |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液(200升) |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液(1000升) |
用于半导体硅片表面的清洁;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液(5升)POSITIVE RESISTDEVELOPER |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液(1000升)POSITIVE RESISTDEVELOPER |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液(5升)HPRD-429 POSITIVEDEVELOPER |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧化 |
37079090.90 |
显影液(200升)POSITIVE RESISTDEVELOPER |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧化 |
37079090.90 |
显影液1000升 POSITIVE RESISTDEVELOPER |
用于半导体硅片表面的清洗;;; |
37079090.90 |
显影液5升,HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPER |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液200升,HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPER |
用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
37079090.90 |
显影液5升POSITIVE RESISTDEVELOPER |
用于半导体硅片表面的清洗;;; |
37079090.90 |
显影液200升OPD-10C |
用于半导体硅片表面的清洗;;;; |