8486202100hs编码

作者：HS CODE目录更新时间：2019-6-5 20:47:54

您查询的海关编码(HSCODE)[8486202100]申报要素及申报实例等详细信息

归属分类：第十六类机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件（84~85章）

章节归属：第八十四章核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件

商品编码

84862021.00

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商品名称

制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置

申报要素

0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS;

法定第一单位

台

法定第二单位

千克

最惠国(%)

进口普通(%)

30%

出口从价关税率

增值税率

13%

退税率(%)

13%

消费税率

海关监管条件

无

检验检疫

无

商品描述

制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD)

英文名称

Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis

个人行邮(税号)

无

海关监管条件(无)HS法定检验检疫(无)

许可证或批文代码

许可证或批文名称

检验检疫代码

名称

申报实例汇总

HS编码	商品名称	商品规格
84862021.00	有机金属化学气相沉积炉	用于生产LED高亮度蓝绿光外延片\|用于生产LED高亮度
84862021.00	金属有机物化学气相沉淀炉	(ICCCS19X2/生产半导体晶片用)
84862021.00	化学气相沉积设备	(旧)(制作半导体专用)
84862021.00	化学气相沉积设备/NOVELLUS/在	(D15498A)
84862021.00	金属有机物化学气相沉积设备	D-180
84862021.00	金属有机源气相沉积设备	D300
84862021.00	镀膜机	COATING MACHINE
84862021.00	化学气相沉积设备/WJ牌	WJ999
84862021.00	射频等离子增强化学气相沉积系统	P600
84862021.00	金属有机物化学气相沉积系统	CCS 19X2 Flip Top
84862021.00	金属有机物化学气相沉积台	E450LDM
84862021.00	气体混合柜成套散件/RESI	化学气相沉积设备，将沉积薄膜的气体按照要求混合
84862021.00	化学气相沉积设备	CONCEPT ONE
84862021.00	C-1淀积炉	型号C1
84862021.00	IC淀积炉	型号7000VTR,旧设备
84862021.00	钨膜化学气相沉积设备	C3 Altus NOVELLUS牌
84862021.00	太阳能减反射膜制造设备	Centrotherm牌,E2000 HT 410-4(4)
84862021.00	(旧)常压化学气相沉积设备	在硅片表面上沉积一层二氧化硅薄膜;;Watkins-Johnson
84862021.00	外延炉	用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S
84862021.00	等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机	镀非晶和微晶膜,品牌:OERLIKON,型号:KAI MT

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